光學(xué)凈化車(chē)間的核心要求圍繞 潔凈度、環(huán)境穩(wěn)定性、靜電控制、氣流組織 等方面展開(kāi)，以確保光學(xué)元件（如鏡頭、傳感器、激光器件等）的生產(chǎn)或研發(fā)不受污染和干擾。以下是詳細(xì)的核心要求：

1. 潔凈度等級(jí)

標(biāo)準(zhǔn)要求：

光學(xué)凈化車(chē)間通常需達(dá)到 ISO 5級(jí)（百級(jí)）或更高（如ISO 4級(jí)/十級(jí)），具體取決于工藝（如納米級(jí)鍍膜需ISO 3級(jí)）。

顆粒物控制：

0.1~0.3μm顆粒：需高效過(guò)濾（如激光器件生產(chǎn)要求≤100顆/立方英尺）。

特殊場(chǎng)景：

光刻、鍍膜等工藝需控制 分子級(jí)污染物（AMC），需配置化學(xué)過(guò)濾器。

2. 溫濕度控制

溫度：

標(biāo)準(zhǔn)范圍：22±1℃（高精度光學(xué)裝配需±0.5℃）。

目的：避免材料熱脹冷縮影響光學(xué)元件精度（如鏡頭焦距偏移）。

濕度：

標(biāo)準(zhǔn)范圍：45±5% RH，部分場(chǎng)景需更低（如激光器件防結(jié)露）。

靜電敏感區(qū)域需保持濕度≥40% RH以減少靜電積累。

3. 氣流組織與壓差

氣流方式：

垂直層流（首選）：頂部FFU送風(fēng)，地面回風(fēng)，覆蓋整個(gè)工作區(qū)。

水平層流：適用于長(zhǎng)條形生產(chǎn)線(xiàn)（如顯示面板制造）。

換氣次數(shù)：

ISO 5級(jí)車(chē)間需≥300次/小時(shí)，局部高潔凈區(qū)域可達(dá)500次以上。

壓差控制：

潔凈區(qū)對(duì)非潔凈區(qū)保持 +5~+10Pa 正壓，防止外部污染侵入。

4. 靜電控制（ESD）

關(guān)鍵措施：

材料：防靜電地板、墻面（表面電阻 10^6~10^9Ω）。

設(shè)備：離子風(fēng)機(jī)、接地裝置（工作臺(tái)接地電阻≤4Ω）。

人員：穿戴防靜電服、手腕帶、鞋套（摩擦電壓≤100V）。

敏感場(chǎng)景：

CCD/CMOS傳感器生產(chǎn)需控制靜電至 ±50V以?xún)?nèi)。

5. 光照與振動(dòng)控制

照明：

無(wú)影防塵LED燈，照度≥500 Lux（部分檢測(cè)區(qū)域需1000 Lux以上）。

避免紫外光干擾（如光刻膠敏感工藝）。

振動(dòng)與噪聲：

振動(dòng)需滿(mǎn)足 VC-D級(jí)（微振動(dòng)標(biāo)準(zhǔn)，振幅≤1μm）。

噪聲≤65dB（避免影響精密儀器）。

6. 其他關(guān)鍵要求

材料兼容性：

車(chē)間裝修材料需低揮發(fā)（VOCs≤0.1mg/m3），防止污染光學(xué)表面。

人員與物流管理：

嚴(yán)格分區(qū)（人流/物流分離），進(jìn)出需經(jīng)風(fēng)淋室（風(fēng)速≥20m/s）。

禁止攜帶粉塵、纖維、硅膠等污染物進(jìn)入。

7. 典型應(yīng)用場(chǎng)景的差異

工藝類(lèi)型 核心要求差異

光學(xué)鍍膜 ISO 4級(jí)，溫濕度±0.5℃，AMC控制

激光器件組裝 靜電控制（±50V）、防震（VC-C級(jí)）

攝像頭模組檢測(cè) 局部百級(jí)工作臺(tái)+防電磁屏蔽

常見(jiàn)問(wèn)題與解決/p>

問(wèn)題：潔凈度波動(dòng)大/p>

→ 檢查過(guò)濾器密封性、壓差穩(wěn)定性或人員操作規(guī)范。/p>

問(wèn)題：光學(xué)元件表面吸附顆粒/p>

→ 增加離子風(fēng)機(jī)或優(yōu)化氣流方向。/p>

光學(xué)凈化車(chē)間的設(shè)計(jì)需根據(jù)具體產(chǎn)品工藝調(diào)整參數(shù)，建議結(jié)合 ISO 14644 和行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)（如SEMI、GB 50073）進(jìn)行詳細(xì)規(guī)劃。/p>